北京鸿泰顺达科技有限公司
鸿泰顺达
http://www.htsd168.com

电话:010-62920684  

手机:13269056097


紫外负型光刻胶       型号:BN-310

 

 

BN310系列紫外负型光刻胶由环化聚异戊二烯、光敏剂、溶剂及添加剂组成,适用于中,大规模集成电路及其它半导体器件的生产。

⒈ 特点:

⑴ 分辨率高;

⑵ 感光速度快,留膜率高;

⑶ 粘附性好,抗蚀性强;

⑷ 工艺宽容度大,质量稳定;

⑸ 纯度高。

⒊ 性质:

本产品为浅黄色清亮液体,易溶于苯类溶剂,在酮类、醇类等溶剂中能析出絮状固体。在光或热作用下,光敏剂分解成游离基,能与环化胶中的不饱和键加成形成网状结构。

该系列胶具备以下特点:

⑴ BN310-25是一种低粘度、高分辨率负胶;

⑵ BN310-35F 含有防光晕染料,特别适合高反射性基片,分辨率高,抗蚀性强。

⒋ 用途:

⑴ BN310-25 适用于中,大规模集成电路及其它半导体器件的生产;

⑵ BN310-35F适用于铝强反射表面,是在硅片、 铝片上均能使用的通用型紫外负型光刻胶。

 

二.负胶配套试剂

BN系列紫外负型光刻胶配套试剂包括显影液、漂洗液、稀释剂、表面处理剂、去膜剂、光刻胶剥离剂等,与BN系列负胶配套使用,能使胶的性能获得最佳效果。与国外同类产品性能一致。规格如下:

㈠ 负胶显影液

⒈ 性质:

无色透明液体,易挥发,能与苯等有机溶剂混合,不溶于水。

⒉ 用途:

用于BN-302、303、308等系列负胶产品的显影,也适用于其它同类光刻胶的显影。

⒊ 使用方法:

通常将欲显影的硅片放入带有搅拌的显影槽内,晃动显影60~90秒,然后马上用负胶清洗剂清洗,也可用喷淋显影和漂洗。

⒋ 注意事项:

本品为易燃品,必须远离火源及高热,贮存于阴凉通风处。

㈡ 负胶漂洗剂

⒈ 性质:

无色透明液体,有酯的香味。

⒉ 用途:

用于BN-302、303、308等系列负胶产品显影后的漂洗,也适用于国外同类产品的清洗。

⒊ 使用方法:

将显影后的基片马上放入盛有本产品的容器内,搅拌或晃动30秒,也可适用于喷淋漂洗。

⒋ 注意事项:

本品易燃,有毒,应在通风处使用,严禁明火或高热,贮存于阴凉通风处。

㈢ 负胶稀释剂

⒈ 性质:

无色透明液体,能与醇、醚等溶剂混合,不溶于水,有毒,易燃。

⒉ 用途:

用于BN-302、303、308等系列负胶产品的稀释,也适用于国外同类产品的稀释。

⒊ 使用方法:

将稀释液按一定量加入到待稀释的光刻胶中混合,充分摇均,放置过夜后使用。

⒋ 注意事项:

应在通风的超净台内使用,严禁明火或高温,贮存于阴凉通风处。

㈣ 负胶表面处理剂

⒈ 性质:

无色透明有机溶剂。

⒉ 用途:

清除亲水氧化物表面的羟基,使基片表面形成憎水基因,以增加胶膜与衬底的粘附性。适用于BN-302、303、308等系列负胶产品用SiO2、SiN4、多晶硅、磷、硼等衬底表面的处理。

⒊ 使用方法:

涂胶前将干净的基片置于表面处理剂中浸泡20分钟左右,然后于200℃烘干30分钟, 冷却至室温即可涂胶。 

⒋ 注意事项:

⑴ 处理基片的容器应保持清洁、干燥。

⑵ 本品易燃,易吸潮。使用时应远离火源,存放于干燥处,密封保存。

⑶ 浸泡的基片之间不应重叠在一起(最好使用垂直存放的基片架)。

⑷ 本品可重复使用,但不要放回原瓶,以免污染。

㈤ 负胶去膜剂(剥离液)

⒈ 性质:

红棕色透明液体,能与水、醇等溶剂互溶,有腐蚀性。

⒉ 用途:

用于除去BN-302、303、308等系列负胶的胶膜,也可用于其它同类产品胶膜的除去。

⒊ 使用方法:

将欲去膜的基片浸泡在去膜剂中,置于水浴上,在80~90℃加热15~20分钟,取出的基片用去离子水冲洗干净。

⒋ 注意事项:

⑴ 本品应在通风处使用,如果溅到皮肤上,立即用大量清水冲洗干净。

⑵ 操作时应戴好防护用品(如手套、眼镜等)

⑶ 如果溅到皮肤上,立即用大量清水冲洗干净。