碲化锌薄膜后处理设备 型号:MCR-600
技术指标：
真空室：（内径×高度）φ600mm×680mm
真空室最高温度：250℃
工件架：装玻璃样品，尺寸300×400×2mm3,28～32片
工件架转速：2～10 r/min
液压提升系统：行程600mm
氮气加热炉：（内径×高度）φ300mm×700mm
氮气加热炉最高温度：400℃
真空系统配置:2X-30旋片式真空泵一台
性能特点：
真空室为钟罩式结构，全部由不锈钢制成，外部有保温层保温，钟罩内装有两个风扇，用于气流搅拌，两个热电偶测温，真空室底板中心装有旋转工件架，真空室钟罩由液压提升系统提升，钟罩两侧装有两根导柱，保证提升时钟罩平稳移动,真空室上部装有真空压力表。
用途： 用于半导体膜的退火处理.
应用环境： 室温:10～30℃
室内有通风系统
室内相对湿度<75%
冷却水进水温度大于露点温度，小于25℃。
冷却水进水压力1.5～2×105Pa
